中微公司(688012)2025中报业绩预告点评:业绩高增,平台化布局加速
中微公司(688012)
投资要点
2025H1业绩高增,平台化布局显现:公司预计2025年上半年营收49.6亿元,同比+43.9%;其中刻蚀设备收入37.8亿元,同比+40.1%,LPCVD设备收入1.99亿元,同比高增608.2%。营收显著增长主要得益于公司用于先进存储&逻辑的高端刻蚀设备付运量显著提升,LPCVD、ALD等新产品形成重复订单。2025H1归母净利润预计为6.8-7.3亿元,同比+31.6至41.3%;扣除非经常性损益后的净利润为5.1-5.6亿元,同比+5.5至15.9%,主要得益于营收增长带来的毛利增加。2025年Q2单季预计营收27.9亿元,同比+51.3%,环比+28.6%;Q2单季归母净利润预计为3.7-4.2亿元,同比+37.0至55.6%,环比+19.4至35.5%。
公司持续加大研发投入,在手订单充足:目前公司在研项目涵盖六类设备和20多个新设备,2025年上半年研发投入14.9亿元,同比+53.7%;占公司营收比例为30.1%。截至2025Q1末公司合同负债为30.7亿元,同比+162.4%;存货为74.5亿元,同比+33.4%;2025Q1公司经营性现金流为3.8亿元。
刻蚀产品持续领先,镀膜产品拓展顺利:(1)CCP设备:在逻辑领域已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖,且已有大量机台进入国际5nm及以下逻辑;截至2024Q4已交付4000个反应台。在存储领域,超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60:1深宽比结构的能力,成功进入2D&3D存储芯片产线。同时,公司积极布局超低温刻蚀技术,积极储备≥90:1深宽比刻蚀技术。(2)ICP设备:公司ICP设备在客户端安装腔体数量近四年CAGR超100%,截至2024年已累计安装超1025个反应台,覆盖超50个逻辑、DRAM、3D NAND等客户;公司的TSV刻蚀设备也已应用于先进封装。此外,公司正在研发用于5-3nm逻辑芯片的ICP刻蚀机。(3)MOCVD设备:积极布局第三代半导体设备,现已在LED等GaN基设备市场占据领先地位,并在Micro-LED领域的MOCVD设备开发上取得良好进展。用于SiC器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试。(4)薄膜沉积设备:公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估,已通过客户现场验证,并获得客户重复量产订单,公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛、钛铝、氮化钽设备也已完成多个逻辑/存储客户验证;EPI设备也已完成多家先进逻辑器件与MTM器件客户的工艺验证,并获得了客户的高度认可。(5)量检测设备:成立子公司超微公司引入电子束检测设备领军人才,已规划覆盖多种量检测设备。
盈利预测与投资评级:我们维持公司2025-2027年归母净利润为24.3/34.0/44.5亿元,当前股价对应动态PE分别为47/34/26倍,维持“买入”评级。
风险提示:晶圆厂扩产节奏不及预期,新品研发&产业化不及预期等。
本站内容源自互联网,如有内容侵犯了您的权益,请联系删除相关内容。 本站不提供任何金融服务,站内链接均来自开放网络,本站力求但不保证数据的完全准确,由此引起的一切法律责任均与本站无关,请自行识别判断,谨慎投资。