光掩模及空白掩模行业研究：集成电路制造的光刻蓝本

　　光掩模是连接IC设计与制造的关键图形蓝本

　　掩膜版（Photomask）又称光罩、掩模版、光刻掩膜版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩模用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一，是产业链中不可或缺的工具，具有资本密集、技术密集的特点。

　　光掩模是由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构。掩膜基板又分为苏打掩膜基板和石英掩膜基板，是制作微细光掩膜图形的感光空白板。

　　平板显示行业

　　1.薄膜晶体管液晶显示器(TFT)掩膜版，包括阵列(Array)掩膜版、彩色滤光片(CF)掩膜版;

　　2.有源矩阵有机发光二极管显示器(AMOLED)掩膜版

　　3.超扭曲向列型液晶显示器(STN)掩膜版。

　　触控行业

　　1、内嵌式触控面板(InCell、OnCell)掩膜版；

　　2、外挂式触控(OGS)掩膜版等

　　半导体行业

　　1、半导体集成电路凸块(IC-Bumping)掩膜版；

　　2、集成电路代工(IC-Foundry)掩膜版；

　　3、集成电路载板(IC-Substrate)掩膜版；

　　4、发光二极管(LED)封装掩膜版。

　　电路板

　　1、柔性电路板(FPC)掩膜版；

　　2、高密度互连线路板(HDI)掩膜版。

点击复制链接查看完整PDF研报

华源证券 葛星甫